无反射光学金属狭缝

金属狭缝是一种广泛应用于光学仪器设备里的元件，无论是在科学实验室仪器（如光谱仪，光衍射实验仪，波粒二象性实验设备）、工业生产线机器（如光感元件，投影测绘机器，激光设备）还是日常生活中的一些检测设备（如胃镜，红外线测温器）都有金属狭缝的应用。金属狭缝通常需要具有良好的非反射（不反光）效果和光屏蔽性，所以通常会在表面进行镀黑（黑化）处理，使金属狭缝表面形成一层黑色薄膜，这种薄膜能够有效地减少光的反射，提高透光率。常用到的处理工艺有：PVD，喷纳米漆，镀氧化铬（CrO3）。

PVD全名物理气相沉积，是一种通过将金属材料在真空环境中蒸发，然后沉积在光学元件金属狭缝表面的技术。这种处理方法可以形成一层均匀、致密的金属膜，进一步提高光学元件的光屏蔽性能。PVD处理不仅能够增加光学元件的耐磨性和耐腐蚀性，还能显著减少金属狭缝光学元件表面的反射。

喷涂纳米漆处理技术是将一种特殊的光学涂层均匀喷涂在光学元件金属狭缝表面的工艺。这种特殊涂层具有良好的吸取能力，能够吸收掉多余的光线，有效地提高光学元件的光屏蔽性能。喷涂处理不仅能够提供金属狭缝光学元件所需的非反射特性（不反光），还能提高光学元件金属狭缝的耐久性和可靠性。

镀氧化铬（CrO3）是利用金属铬的易钝化特性，用电镀技术在金属狭缝的表面形成一层黑色的极薄的钝化膜。镀铬层具有极高的硬度，范围可在400～1200HV内变化。镀铬层还具有超强的耐热性，500℃以下加热光泽性，硬度均不会有明显变化。铬的摩擦系数在所有的金属中是最低的，所以镀铬层具有很好的耐磨性。镀铬层具有良好的化学稳定性，在碱、硫化物、硝酸和大多数有机酸中均不发生作用，且因不变色，使用时能长久保持金属狭缝光学元件的非反射（不反光）特性。

综上所述，金属狭缝通过黑化处理，以满足其非反射（不反光）和良好的光屏蔽性能要求，使金属狭缝在光学元件领域得到广泛应用。