什么是光化学蚀刻?
蚀刻又称为光化学蚀刻，也有人称为腐蚀，是把材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，通过曝光显影工序，将产品的图形转移到覆在金属钢片或者基片表面的抗蚀膜上，需要的区域用抗蚀膜保护起来，不要的区域除去保护膜，裸露出金属片或者基片部分，再用化学药水溶液与金属片或基片接触，达到腐蚀的作用，形成凹凸半刻或者镂空成型的效果。蚀刻最早印刷凹凸版，PCB电路制造等行业，经过不断改良和工艺设备发展，现已广泛应用于航空、机械、化学、医疗等行业中，特别在半导体制程，芯片加工，电子薄片零件等领域，精密蚀刻加工更是不可或缺的技术。
蚀刻按覆膜的不同可分为湿蚀刻的加工流程：
1. 干蚀刻：工程制图→备料落料→材料清洗→烘干→涂膜→曝光→显影→烘干→补点→蚀刻→脱模→成品。
2. 湿蚀刻：开料→清洗板材（不锈钢或其它金属材料）→丝印网→蚀刻→脱模→成品。
光化学蚀刻原理流程图
光化学蚀刻线设备
光化学蚀刻的优点
✳ 低工模具成本
✳ 无毛刺和外力力，不影响金属的材质特性和平整度
✳ 可加工金属材料种类繁多至2000多种，包括难加工金属
✳ 最高精度可达+/-0.01mm
✳ 交付周期最快短至3天
✳ 对复杂图案设计和开孔排布没有限制
✳ 适合大批量生产
光化学蚀刻常见产品应用
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